三星西安半導體存儲芯片二期項目

項目概況：

西安高新技術產業開發區韓國三星城園區位于西太路以西，占地面積約9.4平方公里，園區規劃主要建設三星產業項目及配套設施。西安高新區三星城園區位于西安市西南郊，北臨規劃的鐵路南環線，東臨西太路。規劃用地總范圍為9.52平方公里。園區被洨河分為南北兩個部分，其中綜合保稅區占地4.32平方公里（位于洨河以北），配套服務區占地5.20平方公里（位于洨河以南）。該規劃期限為2012-2020年。園區主導產業是以閃存芯片加工為主的電子信息產業、現代物流業及貿易業。綜合保稅區西南部主要引進三星閃存芯片加工項目，為園區的重點項目。
     項目特點：

項目為典型的工業廠房項目，風管流通介質為氫氟酸，具有刺激性氣味高腐蝕性和。對風管的材質、加工、包裝運輸、安裝和密封性都提出了工業級的要求；項目機電安裝施工工期短；工業附件安裝要求高。

我公司秉持著專業、專注、創新、共贏的經營理念，實行標準化生產的同時嚴把質量關，助力三星-西安二期工程順利竣工。

等離子異形件下料



轆骨與合管

涂抹密封膠

安裝接料斗

潔凈室清潔打包風管

成品待發貨